实用X射线光谱分析

实用X射线光谱分析

作者:高新华等编著

出版社: 化学工业出版社

CIP号:2016206765

书号:978-7-122-27959-0

出版地:北京

出版时间:2016.1

定价:¥128


简介

本书分别对X射线的物理基础、X射线的激发、色散、特殊性质、基体效应、背景与光谱重叠、探测与测量、波长色散与能量色散光谱仪、同步辐射、全反射X射线荧光分析及微束X射线荧光显微分析、样品制备、定性与定量分析、薄膜化学组成与厚度的测定、误差与统计分析及应用等作了系统的介绍,并在附录中列举了X射线荧光光谱分析常用的物理常数、数据、图表等参考资料,方便读者查阅。



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